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薄膜晶體管液晶顯示器廠房設(shè)施要求： 薄膜晶體管液晶顯示器工廠設(shè)計應滿足薄膜晶體管液晶顯示器生產(chǎn)所需要超大空間潔凈環(huán)境的要求。 生產(chǎn)的主要工序應完整、配套，陣列、彩膜和成盒工序段宜設(shè)置在同一廠區(qū)內(nèi)。 潔凈區(qū)內(nèi)位于搬運通道的高架地板應滿足設(shè)備搬運荷載要求。 薄膜晶體管液晶顯示器工廠廠房的耐火等級不應低于二級。 陣列、成盒、彩膜、模組廠房的潔凈室，在關(guān)鍵工藝設(shè)備自帶火災報警和滅火裝置以及在回風氣流中設(shè)有靈敏度嚴于0．01％obs／m的早期煙霧探測系統(tǒng)后，其每個防火分區(qū)的允許建筑面積可按生產(chǎn)工藝要求確定。

技術(shù)參數(shù)：
凈化空調(diào)系統(tǒng)分開設(shè)置的原則除應符合現(xiàn)行國家標準《電子工業(yè)潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》GB 50472的有關(guān)規(guī)定外，還應符合下列規(guī)定： 1 溫、濕度基數(shù)差別大的潔凈室應分開設(shè)置凈化空調(diào)系統(tǒng)； 2 溫、濕度允許波動范圍差別大的潔凈室應分開設(shè)置凈化空調(diào)系統(tǒng)。 布置在陣列、彩膜、成盒廠房核心生產(chǎn)區(qū)的風管、水管應采取減振措施。 潔凈室內(nèi)產(chǎn)生粉塵和有害氣體的工藝設(shè)備和輔助設(shè)備均應設(shè)局部排風裝置，排風罩宜為密閉式。 排風系統(tǒng)的設(shè)計應符合下列規(guī)定： 1 等離子體增強化學氣相沉積和干法刻蝕設(shè)備的尾氣應設(shè)就地處理裝置。 2 酸、堿、有毒和有機廢氣應分開設(shè)置排風系統(tǒng)，并應設(shè)置備用風機和應急電源。 3 陣列、彩膜、成盒廠房一般排風系統(tǒng)應設(shè)置備用風機。 4 有冷凝液產(chǎn)生的工藝設(shè)備局部排風管宜設(shè)置坡度和排液口，冷凝液應排至相應的廢水管網(wǎng)中，且風管系統(tǒng)應采取防液體滲漏措施。 5 有毒排風系統(tǒng)的風管應采用內(nèi)涂聚四氟乙烯的不銹鋼板制作。 6 有毒和有機排風應采取防爆措施。 7 酸、堿、有毒和有機排風系統(tǒng)的風管不應穿過防火墻或防火分隔物。若必須穿過時，不得設(shè)置熔片式防火閥。 8 酸、堿、有毒和有機排風系統(tǒng)的廢氣處理設(shè)備應設(shè)在排風機的負壓端。 9 有毒排風系統(tǒng)的風管應在便于觀察的位置設(shè)置透明觀察口，其管內(nèi)風速不應小于10m／s。 10 工藝設(shè)備局部排風系統(tǒng)的室外風管應根據(jù)當?shù)貧庀髼l件設(shè)置防結(jié)露保溫措施。 11 布置在陣列、彩膜、成盒廠房核心生產(chǎn)區(qū)內(nèi)的排風管道，其管內(nèi)風速不應大于12m／s。 12 潔凈室的排風系統(tǒng)應設(shè)置防止室外氣流倒灌的措施。 一般排風系統(tǒng)的排風宜作為潔凈室的回風使用。 換鞋間應設(shè)置不低于10次／h的全室排風系統(tǒng)，排風口宜設(shè)置在下部；換鞋柜宜設(shè)置局部排風措施；一次更衣間宜設(shè)置不低于5次／h的全室排風系統(tǒng)。 凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)的新風應集中進行熱、濕、凈化處理，新風處理機組的設(shè)置應符合下列規(guī)定： 1 送風機應采取變頻措施； 2 空氣應經(jīng)過粗效、中效、高效過濾器三級處理； 3 陣列、彩膜、成盒廠房應設(shè)置備用新風處理機組； 4 陣列、彩膜、成盒廠房的電機與風機應采用直聯(lián)驅(qū)動方式，且有良好的減振措施； 5